干涉光刻,interference lithography
1)interference lithography干涉光刻
1.The basic principle of multi-interference lithography processes designing and fabricating sub-wavelength grating microstructures is presented.给出了用2θ夹角一次光刻、2θ夹角摆动δ角两次光刻和2θ夹角旋转β角两次光刻等干涉光刻工艺设计和构建可见光波段亚波长光栅微结构的基本原理。
2.The fabrication methods of MPC include electron beam lithography with subsequent evaporation and lift-off,interference lithography with dry-etching technology etc.制备金属光子晶体方法包括:电子束刻蚀结合后续剥离法、激光干涉光刻结合干刻蚀技术等。
3.Waveguided grating structures were fabricated usinginterference lithography.利用干涉光刻技术制备了波导耦合纳米光栅结构,系统研究了其波导共振模式的角分辨调谐特性及其对光栅参数、入射光偏振特性的依赖关系,并作了相应的理论模拟。
英文短句/例句
1.Study on Laser Interferometric Lithography Technology Based on Multi-beam Interference;基于多光束相干的激光干涉光刻技术研究
2.An experimental double-beam and double-exposure interference photolithographic system has been established.建立了双光束双曝光干涉光刻实验系统。
3.Diffraction Spatial Imaging by Using the Technology of Consecutive Variable-pitch Dot Matrix Grating;用于衍射空间成像的连续变空频干涉光刻技术
4.The research results show that IIL can get the high resolution more effectively than conventional optical lithography (OL).研究结果表明，掩模投影成像干涉光刻技术比传统投影光刻能够得到更高的光刻分辨率。
5.The beam division method in maskless laser interference photolithography can be divided into wave-front division and amplitude division.无掩模激光干涉光刻中的分束方法一般有波前分割和振幅分割。
6.Research on the Interference Nanosecond Laser Ablation of Micro-grating Structures on the Silicon Surface硅表面微光栅结构的纳秒激光干涉刻蚀研究
7.Optical head supporting sub wavelength structure with UV interference lithography支持亚波长结构光刻的紫外干涉光学头
8.optical interference filter, unmounted光学干涉滤光片,未装配
9.constant angle reflection interference spectroscopy恒定角反射干涉光谱学
10.constant angle transmission interference spectroscopy恒定角透射干涉光谱学
11.laser image-speckle interferometer激光影像-斑点干涉仪
12.multiple beam lateral-shear interferometer多光束横向切变干涉仪
13.infrared prism interferometer-spectrometer红外棱镜干涉光谱仪
14.multiple exposure interferometry多次曝光干涉量度学
15.totally reflective interference photocathode全反射干涉式光电阴极
16.three laser intercavity interferometer三激光器内腔干涉仪
17.time-resolved interference spectroscopy时间分辨干涉光谱学
18.interferometric fiber optic accelerometer干涉型光纤加速度计
相关短句/例句
Interferometric lithography干涉光刻
1.Study of interferometric lithography without masks;无掩模激光干涉光刻技术研究
3)Laser interferometric lithography激光干涉光刻
1.Laser interferometric lithography with high resolution,large fi.激光干涉光刻技术具有高分辨、大视场、无畸变、长焦深等特点,其分辨极限为λ/4,在微细加工、大屏幕显示器、微电子和光电子器件、亚波长光栅、光子晶体和纳米图形制造等领域有广阔的应用前景。
4)Imaging interferometric lithography成像干涉光刻
1.Imaging interferometric lithography and its spatial frequency analysis;成像干涉光刻技术及其频域分析
5)Study on Laser Interferometric Lithography激光干涉光刻技术
6)Interference ablation干涉刻蚀
延伸阅读
负性光刻胶分子式：CAS号：性质：光加工是指以可见紫外光、X射线、电子束、或者离子束作为加工手段的材料处理工艺，具有加工精度高，容易自动化等特点，广泛用于集成电路和印刷电路板制造、印刷制版等领域。光加工用高分子材料指在光作用下材料物性或外形发生变化，以实现对被照材料本身或者被其覆盖材料加工处理的聚合材料。在这类材料中最重要的是在集成电路、激光照排制版和印刷电路制备中使用的光刻胶。根据光与聚合物之间发生的作用机理不同，可以分成光聚合或光交联型光刻胶，也称为负性光刻胶；光分解型光刻胶，也称为正性光刻胶。除了光刻胶之外，光敏涂料，光敏胶等在广义上也属于光加工高分子材料。采用激光引发聚合直接将聚合物零件加工成型的方法也引起工业界的广泛关注，成为结构复杂高分子零部件光加工用高分子材料中的重要成员，其特点是摆脱了模具束缚，可以完全由计算机设计、控制加工。
