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下列叙述及对应的离子方程式正确的是A.用Cu除去CuCl2溶液中少量的FeCl3杂质:Cu+2Fe3+

时间:2021-04-27 08:27:35

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下列叙述及对应的离子方程式正确的是A.用Cu除去CuCl2溶液中少量的FeCl3杂质:Cu+2Fe3+

问题补充:

下列叙述及对应的离子方程式正确的是A.用Cu除去CuCl2溶液中少量的FeCl3杂质:Cu+2Fe3+═Cu2++2Fe2+B.工业上用NO2与水反应制取NO:3NO2+H2O═NO3-+NO+2H+C.用氢氧化钠溶液除去铝表面的氧化膜:Al2O3+2OH-═2AlO2-+H2OD.向NaAlO2溶液中通入过量CO2制Al(OH)3:2AlO2-+CO2+3H2O═2Al(OH)3↓+CO32-

答案:

C

解析分析:A、除去CuCl2溶液中少量的FeCl3杂质,一般选用氧化铜,不用铜;

B、工业制取一氧化氮用的是氨气的催化氧化;

C、氢氧化钠能够和氧化铝反应生成偏铝酸钠和水;

D、二氧化碳过量,生成了碳酸氢钠.

解答:A、一般除去CuCl2溶液中少量的FeCl3杂质,采用加入CuO,Cu(OH)2,CuCO3等,调节PH除去Fe3+,因为Fe3+开始沉淀时的PH比Cu2+的小,故A错误;

B、工业制取一氧化氮是利用氨气催化氧化制备一氧化氮(硝酸工业的第一步反应):4NH3+5O24NO+6H2O,故B错误;

C、氧化铝能够和氢氧化钠溶液反应,方程式为Al2O3+2OH-═2AlO2-+H2O,故C正确;

D、二氧化碳过量,生成了碳酸氢钠,正确离子方程式为:AlO2-+CO2+2H2O═Al(OH)3↓+HCO3-,故D错误;

故选C.

点评:本题考查离子方程式的书写,注意反应物的量是少量还是过量,难度适中.

下列叙述及对应的离子方程式正确的是A.用Cu除去CuCl2溶液中少量的FeCl3杂质:Cu+2Fe3+═Cu2++2Fe2+B.工业上用NO2与水反应制取NO:3NO

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