▲ 22nm工艺中的三栅极晶体管
梁孟松，奇才也！
自从这个人加盟了中芯国际，28nm，14nm，12nm，一步一个脚印的追赶，到今天终于玩起了N+1，向7nm工艺进军。
梁孟松博士则透露，中芯国际的下一代N+1工艺和14nm相比，性能提升了20%，功耗降低了57%，逻辑面积缩小了63%，SoC面积减少了55%。
请大家注意这个表述，逻辑面积缩减63%，SOC面积减少55%。这已经是7nm的技术标准了，只是在性能上稍差了一些。
但是中芯国际没有用7nm，而是用N+1来表述。
我们可以猜测，梁孟松在三星本来就是搞DUV+多重曝光技术的，无论是英特尔的10nm还是台积电的7nm都逃不开这条路线。中芯国际的研发团队根据自身条件，独立研发自己的工艺制程，是很正常的事。其栅极宽度很可能比7nm要稍微宽一点，但三极管的尺寸压缩下来以后，就可以达到目前主流工艺的性能标准了！
这样造出来的芯片，7nm还是10nm已经不那么重要了，那仅仅是一个噱头而已。重要的是在每平方毫米的芯片上塞满1亿个晶体管！至于发热什么的，让华为设计师去解决。
在我们传统的媒体视角里，特别喜欢强调7nm制程，10nm制程，仿佛栅极宽度不够小，芯片就不先进。没有EUV光刻机，我们就造不出7nm。这当然是错误的！
7nm不是一台光刻机，而是背后一整套芯片制作技术。如果你只买回来了机器，而没有掌握其中的技术路线，就等于买回来一堆废铁。对于中国芯片业来说，真正宝贵的并不是那台EUV光刻机，而是行业内顶尖的技术人才。
中芯国际试图进口EUV，看中的是他未来在5nm和2nm制程上的用途，而并非是7nm这一个里程碑。现在买不到，也未必就是个很大的损失。毕竟7nm和5nm都是商业噱头，而且DUV和7nm制程已经可以满足99%的芯片制造，当然也可以满足华为未来数年的需要。至于说发热量大一点，手机重了几克，对用户来说也许还没有屏幕色彩饱和度重要。
中芯国际拿下N+1项目，意味着台积电不仅丢掉了14nm芯片的华为订单，而且还要丢掉7nm的非旗舰机型订单。失去了这么大一笔利润，必然危及5nm工艺的研发。
芯片行业一向是高投入高回报，你别看美国人占据产业链上端，吃专利费，他的利润是建立在全产业上的！只要中国人找到了替代方法，剥离美国人，对方就会陷入利润枯竭，无法研发下一代技术的窘境。华为在5G和通讯技术上的崛起就是走这条路线。
如今中芯国际也在重复昨天的故事，我们摆脱控制的过程，就是对方走向衰落的过程。
只不过真没想到会这么快！
