很多人都知道芯片界最厉害的,就是荷兰的ASML公司,一直都是处在芯片界的领头羊,核心技术他们当然不会随随便便的透露给我们了,毕竟这个企业的技术可以说真的是处在世界顶尖的位置。
根据近期的报道,中国自主研发的北斗三号芯片,成功的突破了22nm的技术限制,同样的配套的上海微电子技术也获得了突破,成功的研发出了22nm的光刻机,该项技术也获得了突破。值得注意的是,此前中国的光刻技术一直被限制在90nm的瓶颈里。
从技术角度来讲,这是我国半导体领域的一项重大突破。虽然仍旧比不上国际的高端水平,但也是绝大多数国家都无法完成的目标了,所以从大局观角度来看,这绝对是一则振奋人心的好消息。
虽然我国在光刻机、芯片方面都取得了重大突破,但是我们要走的路还是很长的,毕竟有许多国家已经在5nm光刻技术待了好久了,说不定3nm光刻技术马上研究出来了。我们中国还是不能松懈,要抓紧时间进行追赶,甚至反超,争取不再受限于人。